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靶材系列


高純鎳靶材

高純鎳靶材

名稱:鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉(zhuǎn)靶管牌號: N6、 N4用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業(yè)等。... 【詳情】
化工用鋯管靶

化工用鋯管靶

產(chǎn)品名稱:鋯靶材、鋯管靶牌號:R60702、R60704、R60705(Zr702、Zr704、Zr705)生產(chǎn)工藝:熱軋+冷軋+表面清洗+機加形狀:管靶應(yīng)用行業(yè):鋯管靶具有熔點高,密度適中,良好的強度和塑性匹配,而... 【詳情】
702/705鋯旋轉(zhuǎn)靶

702/705鋯旋轉(zhuǎn)靶

產(chǎn)品名稱:鋯靶管、鋯旋轉(zhuǎn)靶廠家:凱澤金屬材 質(zhì):Zr純 度:99.98%晶粒度:<100um工藝:熱軋,冷軋,酸洗,剪切而成應(yīng)用領(lǐng)域:主要用于消費電子行業(yè), Low-e 玻璃鍍膜,觸摸屏鋯材標(biāo)準(zhǔn):ASTM B550 AS... 【詳情】
真空鍍膜用鈦鋁靶

真空鍍膜用鈦鋁靶

產(chǎn)品名稱:高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種,是高純鋁經(jīng)過系列加工后的產(chǎn)品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】
N4/N6高純鎳靶材

N4/N6高純鎳靶材

產(chǎn)品名稱:鎳靶塊牌號:N6, N4用途:鎳靶塊主要用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業(yè)等。... 【詳情】
5G光電用純鎳靶

5G光電用純鎳靶

產(chǎn)品名稱:鎳靶產(chǎn)品材質(zhì):Ni產(chǎn)品規(guī)格:685.7 L x 127 W x 6 H mm (按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度:99.99%產(chǎn)品應(yīng)用:電子半導(dǎo)體,晶元及芯片、微電子傳感器、航空航天、5G光電行... 【詳情】
平面顯示器用鉻靶材

平面顯示器用鉻靶材

產(chǎn)品名稱:鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓柱靶產(chǎn)地:寶雞銘含量 : 99.5%雜質(zhì)含量: 0.5%重量 :不等( KG/塊)用途:鉻靶用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】
鈦靶材

鈦靶材

產(chǎn)品名稱:鈦靶材、鈦板靶、鈦靶板牌號:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃... 【詳情】
高純鉻靶

高純鉻靶

產(chǎn)品名稱:高純鉻靶,鉻靶材,鉻靶塊產(chǎn)地:寶雞銘含量 : 99.5%雜質(zhì)含量: 0.5%重量 :不等( KG/塊)用途:鉻靶用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,... 【詳情】
N4/N6鎳靶

N4/N6鎳靶

產(chǎn)品名稱:鎳靶產(chǎn)品材質(zhì):Ni產(chǎn)品規(guī)格:685.7 L x 127 W x 6 H mm (按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度:99.99%產(chǎn)品應(yīng)用:電子半導(dǎo)體,晶元及芯片、微電子傳感器、航空航天、5G光電行... 【詳情】
高純鈦靶

高純鈦靶

產(chǎn)品名稱:鈦靶 、高純鈦靶產(chǎn)品名稱高純度靶材尺寸1.圓形靶:98*45/95*40/128*45/100*40;2.現(xiàn)貨充足,24H發(fā)貨牌號鈦:TA0 TA1 TA2純度99.5%,99.95%, 99.98%99.995%資質(zhì)認證ISO 9001... 【詳情】
TA2鈦管靶

TA2鈦管靶

產(chǎn)品名稱:鈦靶材,鈦旋轉(zhuǎn)靶,鈦靶管牌號:TA0,TA1,TA2/GR1,GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃... 【詳情】
半導(dǎo)體用鉻靶材

半導(dǎo)體用鉻靶材

牌號:鉻靶 尺寸:100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。鉻靶是用先進的熱等靜壓(HIP)工藝生產(chǎn)而成,靶材致密度高(密度>7.17g/cm3),成分均勻,晶粒細小,使用壽命長。... 【詳情】
鈦鋁靶材

鈦鋁靶材

產(chǎn)品名稱:高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種,是高純鋁經(jīng)過系列加工后的產(chǎn)品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】
鎳靶材

鎳靶材

產(chǎn)品名稱:鎳靶材、鎳旋轉(zhuǎn)靶,鎳平面靶,鎳多弧靶牌號:N6, N4用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業(yè)等。... 【詳情】
702鋯多弧靶

702鋯多弧靶

產(chǎn)品名稱:純鋯靶材、鋯圓靶、鋯板靶、鋯管靶牌號:R60702、R60704、R60705(Zr702、Zr704、Zr705)生產(chǎn)工藝:熱軋+冷軋+表面清洗+機加形狀:板靶/圓靶/管靶應(yīng)用行業(yè):鋯具有熔點高,密度適... 【詳情】
鈦鋁靶材/鈦鋁靶管

鈦鋁靶材/鈦鋁靶管

產(chǎn)品名稱:高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業(yè)濺射靶材中的一種,是高純鋁經(jīng)過系列加工后的產(chǎn)品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】
鉻靶材

鉻靶材

牌號:鉻靶 尺寸:100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。鉻靶是用先進的熱等靜壓(HIP)工藝生產(chǎn)而成,靶材致密度高(密度>7.17g/cm3),成分均勻,晶粒細小,使用壽命長。... 【詳情】
TA1純鈦靶

TA1純鈦靶

名稱:鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦平面靶,鈦旋轉(zhuǎn)靶牌號:TA0,TA1,TA2,GR1,GR2執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T2695-1996,ASTM B348-97用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面... 【詳情】
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